某半导体芯片开发单位因晶圆的洗涤环节带来含氨废气，蓄水量200吨/天。废气中除氧化还原电位外还有效氟化物和微量分析巨资属，处置的难度大。本县产生基准符合要求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生活污水基本成分及渠道 晶圆洁净生活污水（其主要来源于）：含氧化还原电位200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺废液：含轻微铜、镍等巨资属，pH值变化大 CMP磨研废水处理工艺：含硅颗粒剂及氯离子 治疗工艺设计注意事项 通过"无机化学奠定+膜离心分离+折点氯化"整合工艺流程： 预治理 ：添加CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透装置平台 ：剔除0.01μm不低于颗粒肥料物 反融于溶缩 ：将化学需氧量原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精准的控制氯加药系统量，将化学需氧量转换成为氦气 阴离子交流 ：安全保障天价属符合标准 从而作用 化学需氧量稳定可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属纯度大于在线检测限 水循环率达75% 生活污水有量少40%