某半导体设备治疗芯片产生厂在晶圆工作时候中，安全使用硅烷参与硅本质发育，烟气洗洁塔产生高密度含硅生活污水。生活污水还具有pH震荡大（2-11）、硅成分高的共同点，传统化治疗的方法易现身硅垢堵死疑问。 废液化学成分及源于 生活污水主要材料为： 融掉性硅酸盐 ：SiO₂含量达1000-1500mg/L 氢腐蚀钾/氢腐蚀钠 ：洗衣塔强酸强碱洗衣液残余 颗料硅 ：纳米技术级SiO₂固体 痕量砷 ：主料钙镁离子带进 净化处理工序方法 信息化选取"二级与+膜筛选+蒸发掉晶粒"生产工艺： 特级中合 ：用CaO调准pH至4-5，制成硅酸钙沉淀自己，硅祛除率60%。 两级采和 ：加Na₂CO₃将pH升级至9，提高认识一个脚印石雕文化沉淀已满硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置系统的 ：0.02μm工业陶瓷膜过滤清洁纳米级级硅粉末，通量动态平衡在80LMH。 MVR挥发器 ：溶缩高盐电镀废水，凝结出Na₂SO₄副服务，水使用率超90%。 进而目的 总硅从1500mg/L减少为5mg/L下列 砷含氧量从0.8mg/L调至0.01mg/L 操作系统无水垢使用已超2年 每月二手回收氢氧化钾钠硫化锌约800吨